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晶閘管、MOS管、IGBT各元器件的特征

發(fā)布日期:2024-04-24 09:20:30         瀏覽數(shù):   

  各元器件的特征晶閘管、MOS管、IGBT等等類似二級管的元器件近場把人搞得一頭霧水,今天將各元器件的特征、原理及區(qū)別進(jìn)行歸納整理,進(jìn)行分享。

  1.二級管

  二極管特征:給二極管兩極間加上正向電壓時(shí),二極管導(dǎo)通;加上反向電壓時(shí),二極管截止。二極管的導(dǎo)通和截止,則相當(dāng)于開關(guān)的接通與斷開。

  二極管原理:利用PN結(jié)的單向?qū)щ娦裕赑N結(jié)上加上引線和封裝就成了一個(gè)二極管。

  當(dāng)有正向電壓時(shí),外界電場和自建電場的互相抑消作用使載流子的擴(kuò)散電流增加引起了正向電流。當(dāng)外界有反向電壓偏置時(shí),外界電場和自建電場進(jìn)一步加強(qiáng),形成在一定反向電壓范圍內(nèi)與反向偏置電壓值無關(guān)的反向飽和電流。

  當(dāng)外加的反向電壓高到一定程度時(shí),PN結(jié)空間電荷層中的電場強(qiáng)度達(dá)到臨界值產(chǎn)生載流子的倍增過程,產(chǎn)生大量電子空穴對,產(chǎn)生了數(shù)值很大的反向擊穿電流,稱為二極管的擊穿現(xiàn)象。

晶閘管、MOS管、IGBT各元器件的特征(圖1)

  2.三極管

  三極管,也稱雙極型晶體管,目前使用最多的是硅NPN和鍺PNP兩種三極管。

  三級管特征:以NPN管為例,它是由2塊N型半導(dǎo)體中間夾著一塊P型半導(dǎo)體所組成,發(fā)射區(qū)與基區(qū)之間形成的PN結(jié)稱為發(fā)射結(jié),而集電區(qū)與基區(qū)形成的PN結(jié)稱為集電結(jié),三條引線分別稱為發(fā)射極e(Emitter)、基極b(Base)和集電極c(Collector)。

  三極管原理:在制造三極管時(shí),有意識(shí)地使發(fā)射區(qū)的多數(shù)載流子濃度大于基區(qū)的,同時(shí)基區(qū)做得很薄,而且,要嚴(yán)格控制雜質(zhì)含量,這樣,一旦接通電源后,由于發(fā)射結(jié)正偏,發(fā)射區(qū)的多數(shù)載流子(電子)及基區(qū)的多數(shù)載流子(空穴)很容易地越過發(fā)射結(jié)互相向?qū)Ψ綌U(kuò)散,但因前者的濃度基大于后者,所以通過發(fā)射結(jié)的電流基本上是電子流,這股電子流稱為發(fā)射極電子流。

晶閘管、MOS管、IGBT各元器件的特征(圖2)

  3.晶閘管

  晶閘管,也稱可控硅(Silicon Controlled Rectifier)簡稱SCR。

  晶閘管特征:由四層半導(dǎo)體材料組成的,即三個(gè)PN結(jié),有三個(gè)電極:第一層P型半導(dǎo)體引出的電極叫陽極A,第三層P型半導(dǎo)體引出的電極叫控制極G,第四層N型半導(dǎo)體引出的電極叫陰極K。

  晶閘管特點(diǎn):“一觸即發(fā)”。但如果陽極或控制極外加的是反向電壓,晶閘管就不能導(dǎo)通。控制極的作用是通過外加正向觸發(fā)脈沖使晶閘管導(dǎo)通,卻不能使它關(guān)斷。那么,用什么方法才能使導(dǎo)通的晶閘管關(guān)斷呢?使導(dǎo)通的晶閘管關(guān)斷,可以斷開陽極電源或使陽極電流小于維持導(dǎo)通的最小值(稱為維持電流)。如果晶閘管陽極和陰極之間外加的是交流電壓或脈動(dòng)直流電壓,那么,在電壓過零時(shí),晶閘管會(huì)自行關(guān)斷。

晶閘管、MOS管、IGBT各元器件的特征(圖3)

  4.MOS管

  MOS,是MOSFET的縮寫。MOSFET金屬-氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管,簡稱金氧半場效晶體管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,MOSFET)。

  MOS特征:在金屬柵極與溝道之間有一層二氧化硅絕緣層,因此具有很高的輸入電阻(最高可達(dá)10^15Ω)。它也分N溝道管和P溝道管。通常是將襯底(基板)與源極S接在一起。

  MOS原理:以N溝道為例,它是在P型硅襯底上制成兩個(gè)高摻雜濃度的源擴(kuò)散區(qū)N+和漏擴(kuò)散區(qū)N+,再分別引出源極S和漏極D。源極與襯底在內(nèi)部連通,二者總保持等電位。電位方向是從外向里,表示從P型材料(襯底)指身N型溝道。當(dāng)漏接電源正極,源極接電源負(fù)極并使VGS=0時(shí),溝道電流(即漏極電流)ID=0。隨著VGS逐漸升高,受柵極正電壓的吸引,在兩個(gè)擴(kuò)散區(qū)之間就感應(yīng)出帶負(fù)電的少數(shù)載流子,形成從漏極到源極的N型溝道,當(dāng)VGS大于管子的開啟電壓VTN(一般約為+2V)時(shí),N溝道管開始導(dǎo)通,形成漏極電流ID。

晶閘管、MOS管、IGBT各元器件的特征(圖4)

  5.IGBT

  IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor),絕緣柵雙極型晶體管。

  IGBT特征:由雙極型三極管和絕緣柵型場效應(yīng)管(Metal Oxide Semiconductor,MOS)組成的復(fù)合全控型電壓驅(qū)動(dòng)式功率半導(dǎo)體器件。

  IGBT原理:下圖所示為一個(gè)N溝道增強(qiáng)型絕緣柵雙極晶體管結(jié)構(gòu),N區(qū)稱為源區(qū),附于其上的電極稱為發(fā)射極E(圖示為S)。N-與N+稱為漏區(qū)。器件的控制區(qū)為柵區(qū),附于其上的電極稱為柵極G。溝道在緊靠柵區(qū)邊界形成。在集電極C(圖示為D)、發(fā)射極E(圖示為S)兩極之間的P型區(qū)(溝道在該區(qū)域形成),稱為亞溝道區(qū)(Subchannel region)。而在漏區(qū)另一側(cè)的P+區(qū)稱為漏注入?yún)^(qū)(Drain injector),它是IGBT特有的功能區(qū),與漏區(qū)和亞溝道區(qū)一起形成PNP雙極晶體管,起發(fā)射極的作用,向漏極注入空穴,進(jìn)行導(dǎo)電調(diào)制,以降低器件的通態(tài)電壓。附于漏注入?yún)^(qū)下的電極稱為集電極C(圖示為D)。

晶閘管、MOS管、IGBT各元器件的特征(圖5)

  6.MOS管與IBGT的區(qū)別

晶閘管、MOS管、IGBT各元器件的特征(圖6)

  這些器件可以作為放大器,開關(guān)管等使用。三極管是電流驅(qū)動(dòng),晶閘管,MOS管和IGBT都是電壓驅(qū)動(dòng),IGBT的功率較大,在大功率輸出場合應(yīng)用較廣。


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